1
ستاد ویژه توسعه فناوری نانو Iran Nanotechnology Initiative Council بستن
  • ستاد ویژه توسعه فناوری نانو

  • مدیریت بانک اطلاعات شاخص های فناوری نانو

  • سایت جشنواره فناوری نانو

  • سیستم جامع آموزش فناوری نانو

  • شبکه آزمایشگاهی فناوری نانو

  • موسسه خدمات فناوری تا بازار

  • کمینه استاندارد سازی فناوری نانو

  • پایگاه اشتغال فناوری نانو

  • کمیته نانو فناوری وزارت بهداشت

  • جشنواره برترین ها

  • مجمع بین المللی اقتصاد نانو

  • اکو نانو

  • پایگاه اطلاع رسانی محصولات فناوری نانو ایران

  • شبکه ایمنی نانو

  • همایش ایمنی در نانو

  • گالری چند رسانه ای نانو

  • تجهیزات فناوری نانو

  • صنعت و بازار

  • باشگاه نانو

پارامترهای موثر بر ایجاد پوششDLC به‌روش قوس کاتدی با استفاده از تبخیر تارگت گرافیت

پوشش¬های کربن شبه الماس (DLC) از جمله پوشش¬های نوین در حوزه مهندسی سطح است که به دلیل خواص منحصر به فرد از جمله ضریب اصطکاک پایین به عنوان لایه خارجی بر روی قطعات اعمال می¬شود. سختی بالا و مقاومت در برابر حملات شیمیایی از جمله دیگر خصوصاتی است که موجب توجه روز افزون به این پوشش شده است. این پوشش با استفاده از روش¬هایی چون PACVD و روش کندوپاش مغناطیسی اعمال می¬شود و هم اکنون به صورت تجاری در آمده است.

پیش زمینه طرح :

هدف از این طرح، ایجاد پوشش DLC با استفاده از فناوری PVD به روش قوس کاتدی با استفاده از تبخیر گرافیت کاتدی است. با توجه به تفاوت در مکانیزیم تبخیر بین روش کندوپاش مغناطیسی و قوس کاتد، لازم است شرایط دقیق ایجاد پوشش با استفاده از روش قوس کاتد تعیین شود. بررسی اثر پارامترهای مختلف از جمله بایاس ولتاژ، دمای فرایند، فشار محفظه و جریان کاتد بر میزان تشکیل پیوند SP3 می¬باشد. در این طرح لازم است که ضمن ایجاد پوشش DLC با خواص چسبندگی و مکانیکی مطلوب، تحلیل جامعی از اثر هر یک از پارامترها بر خواص پوشش نهایی ارائه شود. همچنین لازم است، در مراحل پژوهش و بررسی این طرح کاربردهای تخصصی این پوشش در صنایع مختلف نیز شناسایی و معرفی گردد. معیارهای مورد نظر در بررسی نتایج این پایان نامه: 1- دستیابی به پوشش با سختی بالای 2500 ویکرز 2- دسیتابی به پوشش DLC با دارا بودن بیش از 80 درصد پیوند SP3 3- مشخص کردن اثر هر یک از متغیرها بر خواص نهایی پوشش DLC. 4- شناسایی و دسته بندی کاربردهای صنعتی پوشش DLC در صنایع مختلف