1
ستاد ویژه توسعه فناوری نانو Iran Nanotechnology Innovation Council بستن
  • ستاد ویژه توسعه فناوری نانو

  • بانک اطلاعات شاخص های فناوری نانو

  • سایت جشنواره فناوری نانو

  • سیستم جامع آموزش فناوری نانو

  • شبکه آزمایشگاهی فناوری نانو

  • موسسه خدمات فناوری تا بازار

  • کمیته استانداردسازی فناوری نانو

  • پایگاه اشتغال فناوری نانو

  • کمیته نانو فناوری وزارت بهداشت

  • جشنواره برترین ها

  • مجمع بین المللی اقتصاد نانو

  • اکو نانو

  • پایگاه اطلاع رسانی محصولات فناوری نانو ایران

  • شبکه ایمنی نانو

  • همایش ایمنی در نانو

  • گالری چند رسانه ای نانو

  • تجهیزات فناوری نانو

  • صنعت و بازار

  • باشگاه نانو

روشی برای تولید لایه‌ی نازک به ضخامت دو مولکول

موضوع : علم و پژوهش کلمات کلیدی : لایه نازک تاریخ خبر : 1397/05/23 تعداد بازدید : 684

پژوهشگرانی از دانشگاه توکیو موفق به ارائه‌ی روشی برای تولید لایه‌های نازک به ضخامت 4.4 نانومتر شدند. این لایه‌های نازک نیمه‌هادی بوده و از آن‌ها می‌توان برای شناسایی مواد شیمیایی استفاده کرد.

تولید لایه‌های نازک با ضخامت نانومتری به‌صورت کنترل شده کاری چالش ‌برانگیز است. محققان دانشگاه توکیو روشی ارائه کردند که با استفاده از آن می‌توان لایه‌های بسیار نازک به ضخامت دو مولکول را در مقیاس وسیع تولید کرد. این لایه‌های نازک ضخامت 4.4 نانومتری داشته و با استفاده از فناوری پردازش سیال تولید می‌شوند که روشی استاندارد و کم‌ هزینه محسوب می‌شود.

شانتو آریا از محققان این پروژه می‌گوید: «ما می‌‌خواهیم برای ادوات الکترونیکی غشای نازک بسازیم؛ غشائی که انعطاف‌پذیر، مستحکم‌، حساس و بسیار نازک باشد. ما روشی برای طراحی دولایه‌های مولکولی نیمه‌هادی پیدا کردیم که به ما اجازه می‌دهد تا این غشاءها را در مقیاس انبوه در حد 100 سانتیمتر مربع تولید کنیم. این غشاءها می‌توانند به‌عنوان ترانزیستور لایه‌ی نازک با عملکرد بالا استفاده شوند.»

پدیده‌ای موسوم به خنثی‌سازی ژئومتریک مسئول موفقیت این فرآیند است. در این پدیده، شکل مولکول موجب می‌شود تا امکان ایجاد چند لایه‌ روی هم وجود نداشته باشد. فیلم تولید شده شفاف بوده و جاذبه و دافعه‌ای میان مولکول‌ها وجود دارد. ساختار کل مولکول به‌صورت دولایه بوده و از پایداری بالایی برخوردار است. روش‌های متداول تولید دولایه‌های مولکولی نیمه‌هادی به‌گونه‌ای است که امکان کنترل ضخامت بدون ایجاد ترک وجود ندارد.

اما این روش به‌گونه‌ای است که می‌توان فیلم نهایی را کنترل کرد. از این فیلم می‌توان در حوزه‌هایی نظیر الکترونیک انعطاف‌پذیر یا ادوات شناسایی مواد شیمیایی استفاده کرد. خواص نیمه‌هادی این فیلم دلیل کاربردهای آن است. سرعت تولید دولایه مولکولی این گروه تحقیقاتی بسیار سریع‌تر از لایه‌های نازک سیلیکونی آمورف است که برای ترانزیستورها استفاده می‌شود.

محققان این پروژه قصد دارند این تحقیقات را ادامه دهند تا به بررسی خواص دولایه‌های تولید شده با استفاده از پدیده خنثی‌سازی ژئومتریک بپردازند. آن‌ها به دنبال کشف پتانسیل‌های کاربردی این لایه‌های نازک در بخش شناسایی مواد شیمیایی هستند.